元記事:Sculpt, Paint, Texture - Blender Developer Documentation

全般

  • Sclupt(スカルプト)テンプレートを更新、一部のオーバーレイをデフォルトで有効に。(d4167bfcd7)

  • Multiresolution(マルチレゾリューション)モディファイアーに、Conform Base(ベースを同化)が Apply Base(ベースに適用)の横に追加されました。これはベースメッシュの頂点を細分化された位置に移動します。(fee064e5242f1ff5c6188d835f2c141b24f41940マニュアル)


    同じマルチレゾリューションメッシュへの Apply Base(ベースに適用)と Conform Base(ベースを同化)使用の比較

ブラシ

  • Brush Size(サイズ)Strength(強さ)Jitter(ジッター) の各プロパティに、ブラシストローク中のタブレットペンの筆圧の影響を調整する、カスタマイズ可能なカーブが付きました。これらのカーブを複数のプリセットに設定するオプションもあります。(5f8311f596a4ddb8fc03337f8bea07831116cd89a40d484b1ab7b896eccbdd9d9e1884454bc2e8be)

Python API / 互換性の変更

Python APIページに、変更のある API の完全なリストがあります。

スカルプト

テクスチャペイント

  • バンドルの Essentials(エッセンシャル)ブラシが更新、カタログにまとめられました。さらに、Paint Pixel ArtErase Pixel Art ブラシが追加されました。(06e391b5e47e2a42b78936f4293d8a12de51ff40)

Undo(元に戻す)

  • 変形の Undo(元に戻す)データが圧縮されるようになり、全体的に最低でも二倍小さくなりました。これにより、メモリ消費量が最低でも10%削減され、もっと多くの Undo ステップをメモリに格納できるようになりました。(8536fd12234649d98e4a57d72aeb322e107cf754)

  • スカルプトモードのベーストポロジーに影響を与えるオペレーター(Trim(トリム)や Remesh(リメッシュ)など)が、全体の Undo システムにメモリ消費量を報告するように。(919eb4bfe754a3ca479c570b611fde78c0d0194d)

ウェイトペイント


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